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ION系列等離子體清洗系統

產品詳情


產品簡介

射頻發生器是產生等離子體的能量來源。它將標準的50/60Hz交流線路電源轉換為13.56MHz射頻信號。并加到密閉腔室內的一組電極上,將腔室中的一些氣體分子電離為化學反應原子、離子和自由基組成的低溫等離子體。

射頻發生器具有內置的安全功能,以保護功率晶體管免受過度反射功率的影響,并調節輸出功率。

等離子體可以用于加工材料的表面以進行清潔、蝕刻、剝離和/或活化。

射頻發生器包含反射功率和散熱器溫度控制程序。在打開射頻電源之前,控制程序確保腔室中的壓力在可接受的范圍內。這可防止對匹配網絡造成損壞。


產品特性

可用氣體

鋁制或陶瓷腔室:空氣,氬氣,氧氣,一氧化二氮,四氟化碳,氦氣

玻璃腔室:空氣,氬氣,氧氣,一氧化二氮,四氟化碳

質量流量控制計   最多至6路氣體
工藝壓力      200-2000 mTorr(取決于真空泵和氣體流量)
抽真空時間      大約1分鐘 (取決于真空泵)
射頻電源     風冷13.56MHz,600 瓦(標準配置)

供給需求電源  220V 單相, 50Hz
工藝氣體     輸入壓力 1-2 bar
吹掃氣體     輸入壓力 1-2 bar
壓縮空氣     輸入壓力 4-6 bar



產品應用

有機、金屬和復合基底的表面改性和清洗


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